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光催化劑實驗室納米分散機

光催化劑實驗室納米分散機一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產品更穩(wěn)定。

  • 產品型號:LD-2L
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-12
  • 訪  問  量:1807
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詳細介紹

光催化劑實驗室納米分散機

一、產品名稱概述:光催化劑超高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線式分散機,光觸媒超高速分散機

二、光催化劑的簡介

通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思,光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學反應速率的化學物質,其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學物質的統(tǒng)稱。

三、光催化劑材料的種類

世界上能作為光觸媒的材料眾多,包括二氧化鈦,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯,硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體,其中二氧化鈦因其氧化能力強,化學性質穩(wěn)定無毒,成為世界上當紅的納米光觸媒材料。在早期,也曾經較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料,但是由于這兩者的化學性質不穩(wěn)定,會在光催化的同時發(fā)生光溶解,溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性,故發(fā)達國家目前已經很少將它們用作為民用光催化材料,部分工業(yè)光催化領域還在使用。

二氧化鈦是一種半導體,分別具有銳鈦礦,金紅石及板鈦礦三種晶體結構,其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。

 

四、光催化原理

因為生產光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料,因此光催化又稱為半導體光催化。光催化氧化的機理是用固體能帶理論來解釋的。

根據(jù)固體能帶理論,固體材料的能帶結構可以分為價帶、禁帶和導帶三部分。導體的導帶和價帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零,所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶,所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間,所以其在一定條件下可以導電。

在半導體中,所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶,比價帶能量更高的能帶便是導帶,介于價帶和導帶之間的空隙稱之為禁帶。光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶,形成了電子和空穴,形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。

五、光催化劑材料的分散

光催化材料應用中,一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?;⒕鶆蚧奶幚磉^程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產品更穩(wěn)定。結合多家客戶案例,推薦XMD2000系列超高速研磨分散機,兩級結構,先研磨后分散,轉速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高?;蚺问叫×糠稚CLD-1L。

設備參數(shù)

電源220V,50/60Hz

蕞小允許攪拌量300ml

小允許乳化量500ml

大允許乳化量1000ml

高工作溫度120℃

可達到真空-0.0975Mpa

大處理粘度100,000CP

攪拌馬達功率50W

攪拌速度范圍10-200rpm

攪拌槳配置錨式螺帶刮壁攪拌槳

刮板材質PTFE

均質馬達功率500W

均質速度范圍10000-28000rpm

均質工作頭配置20DG

反應釜蓋開口均質機口+料斗口+測溫口+真空口+3個功能口

升降支架行程210

與物料主要接觸材質SS316L、硼硅玻璃、FKM

真空口外徑10

玻璃釜夾套進、出口外徑12

允許環(huán)境溫度5-40℃

允許相對濕度80%

外形尺寸470×420×1200

標配重量~35kg

光催化劑實驗室納米分散機

 
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